买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！

龙图腾网恭喜ASML荷兰有限公司申请的专利光刻图案化工艺和在其中使用的抗蚀剂获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113009782B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-02-18发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110243439.7，技术领域涉及：G03F7/00；该发明授权光刻图案化工艺和在其中使用的抗蚀剂是由S·F·伍伊斯特;O·伊尔迪里姆;G·里斯彭斯;A·O·波利雅科夫设计研发完成，并于2015-12-01向国家知识产权局提交的专利申请。

本光刻图案化工艺和在其中使用的抗蚀剂在说明书摘要公布了：公开了一种抗蚀剂组合物，其包括具有有着选自ABX3、A2BX4或ABX4的化学式的结构的钙钛矿材料，其中A是包含NH3基团的化合物，B是金属并且X是卤化物组分。钙钛矿材料可以包括以下成分中的一种或多种：混合卤素的钙钛矿材料；混合金属的钙钛矿材料，和混合有机配体的钙钛矿材料。

本发明授权光刻图案化工艺和在其中使用的抗蚀剂在权利要求书中公布了：1.一种抗蚀剂组合物，包括物质，包括多个自组装分子，每个自组装分子具有用于自组装至衬底材料的自组装配体基团，所述衬底材料接触所述抗蚀剂组合物的层，所述自组装分子还具有与所述自组装配体基团不同的钝态封端基团，其中所述钝态封端基团包括C封端基团或者叠氮化物封端基团，所述钝态封端基团在用光刻辐射照射时变成活性封端基团；以及多个棒状长粒无机纳米粒子，被配置成不与所述自组装分子的所述钝态封端基团或所述自组装配体基团以化学键合方式结合，其中所述无机纳米粒子被配置成与所述自组装分子的所述活性封端基团以化学键合方式结合，以及其中在所述钝态封端基团是所述C封端基团的情况下，所述C封端基团包括在用所述光刻辐射束曝光时能够转化成所述活性封端基团的-CH3封端基团，其中所述活性封端基团包括-COOH，且在所述钝态封端基团是所述叠氮化物封端基团的情况下，所述无机纳米粒子的表面用具有经由环氧交联剂基团联结到所述无机纳米粒子的C＝C封端的表面活性剂保护，其中所述叠氮化物封端基团在利用所述光刻辐射照射时变成能够与具有所述C＝C封端的所述表面活性剂发生反应的所述活性封端基团。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人ASML荷兰有限公司，其通讯地址为：荷兰维德霍温；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。