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龙图腾网恭喜中央硝子株式会社申请的专利拒水性保护膜形成用化学溶液、其制备方法和表面处理体的制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN111742391B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-02-18发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：201980012863.1，技术领域涉及：H01L21/304；该发明授权拒水性保护膜形成用化学溶液、其制备方法和表面处理体的制造方法是由奥村雄三;近藤克哉;山田周平;两川敦;福井由季设计研发完成，并于2019-02-05向国家知识产权局提交的专利申请。

本拒水性保护膜形成用化学溶液、其制备方法和表面处理体的制造方法在说明书摘要公布了：本发明提供一种包含具有各种碱度的新催化成分的新型拒水性保护膜形成用化学溶液及其制备方法、以及使用该化学溶液的表面处理体的制造方法。本发明的拒水性保护膜形成用化学溶液是用于在晶片的表面形成拒水性保护膜的拒水性保护膜形成用化学溶液，所述晶片的该表面包含硅元素，所述拒水性保护膜形成用化学溶液包含：I甲硅烷基化剂、II下述通式[1]和[2]所示的化合物之中的至少1种含氮化合物、以及III有机溶剂。

本发明授权拒水性保护膜形成用化学溶液、其制备方法和表面处理体的制造方法在权利要求书中公布了：1.一种拒水性保护膜形成用化学溶液，其是用于在晶片的表面形成拒水性保护膜的拒水性保护膜形成用化学溶液，所述晶片的该表面包含硅元素，所述拒水性保护膜形成用化学溶液包含：I甲硅烷基化剂、II下述通式[1]和[2]所示的化合物之中的至少1种含氮化合物、以及III有机溶剂，其中，所述甲硅烷基化剂为选自由下述通式[3]～[6]所示化合物组成的组中的至少1种，R3aHbSi〔OC＝OR4〕4-a-b[3]式[3]中，R3分别相互独立地选自一部分或全部氢元素任选被氟元素取代的碳原子数为1～18的1价烃基，R4分别相互独立地选自一部分或全部氢元素任选被氟元素取代的碳原子数为1～6的烷基，a为1～3的整数，b为0～2的整数，a与b的总计为3以下；R5cHdSi〔NR6C＝OR7〕4-c-d[4]式[4]中，R5分别相互独立地选自一部分或全部氢元素任选被氟元素取代的碳原子数为1～18的1价烃基，R6分别相互独立地为选自由氢原子、以及一部分或全部氢元素任选被氟元素取代的碳原子数为1～6的烷基组成的组中的基团，R7分别相互独立地选自一部分或全部氢元素任选被氟元素取代的碳原子数为1～6的烷基，c为1～3的整数，d为0～2的整数，c与d的总计为3以下；R8eHfSiN＝CR9OSiHgR10h[5]式[5]中，R8和R10分别相互独立地选自一部分或全部氢元素任选被氟元素取代的碳原子数为1～18的1价烃基，R9为选自由氢原子、以及一部分或全部氢元素任选被氟元素取代的碳原子数为1～6的烷基组成的组中的基团，e和h为1～3的整数，f和g为0～2的整数，e与f的总计以及g与h的总计均为3；R11iHjSi-Y[6]式[6]中，R11分别相互独立地选自一部分或全部氢元素任选被氟元素取代的碳原子数为1～18的1价烃基，i为1～3的整数，j为0～2的整数，i与j的总计为3，Y表示1价含氮杂环基， 其中，所述通式[1]和[2]的R1分别相互独立地为选自氢原子、碳原子数1～6的烷基和碳原子数1～6的烷氧基中的基团，R2为氢原子、碳原子数1～6的烷基、碳原子数1～6的烷氧基或下述通式[8]所示的烷基甲硅烷基，-〔SiR13mHn〕[8]R13分别相互独立地选自碳原子数为1～18的1价烃基，m和n为0～3的整数，m与n的总计为3。

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