恭喜ASML荷兰有限公司E·库尔干诺娃获国家专利权
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龙图腾网恭喜ASML荷兰有限公司申请的专利石墨烯表膜光刻设备获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN111836681B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-02-18发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:201980018223.1,技术领域涉及:B01J23/652;该发明授权石墨烯表膜光刻设备是由E·库尔干诺娃;A·J·M·吉斯贝斯;A·L·克莱因;马克西姆·A·纳萨勒维奇;A·W·诺滕博姆;M·彼得;彼得-詹·范兹沃勒;D·F·弗莱斯;S·沃勒布瑞特;W-P·福尔蒂森设计研发完成,并于2019-02-07向国家知识产权局提交的专利申请。
本石墨烯表膜光刻设备在说明书摘要公布了:披露了一种催化剂,包括:第一层,所述第一层包括钼;基层;和中间层,其中所述中间层被设置在所述基层与所述第一层之间。也披露了制备催化剂的方法以及用于合成石墨烯的方法、使用本文中所披露的所述催化剂或所述方法而生产的表膜,以及包括这样的膜的光刻设备。
本发明授权石墨烯表膜光刻设备在权利要求书中公布了:1.一种用于生产石墨烯的催化剂,所述催化剂包括:(i)第一层,包括过渡金属;(ii)基层;和(iii)中间层,其中所述中间层被设置在所述基层与所述第一层之间,并且所述中间层包括金属氧化物和金属硅化物,所述金属氧化物包括二氧化锆,所述金属硅化物包括硅化钼,其中所述催化剂还包括:(iv)沉积在所述第一层上的非晶碳层。
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