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龙图腾网恭喜康宁股份有限公司申请的专利有机发光装置的光提取基材及其制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN112204763B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-02-18发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：201980036733.1，技术领域涉及：H10K50/854；该发明授权有机发光装置的光提取基材及其制造方法是由尹洪设计研发完成，并于2019-05-24向国家知识产权局提交的专利申请。

本有机发光装置的光提取基材及其制造方法在说明书摘要公布了：一种有机发光装置的光提取基材。设置在基底基材110上的光散射层121包含第一材料，并且包括面向基底基材的第一表面，与第一表面相对的第二表面，以及在第一表面与第二表面之间延伸的多个孔121a。平面化层123被设置在光散射层121上，并且包含第二材料。第一材料和第二材料的折射率在1.8至2.6的范围内。当在与光散射层121的厚度方向垂直的平面上测量时，孔121a的直径在350nm至450nm的范围内。所述多个孔在第一表面中占据的面积与第一表面的面积的比值为至少40％。平面化层的厚度为200nm或更小。

本发明授权有机发光装置的光提取基材及其制造方法在权利要求书中公布了：1.一种有机发光装置的光提取基材，其包括：基底基材；光散射层，其设置在基底基材上，并且包含第一材料，所述光散射层包括面向基底基材的第一表面，以及与第一表面相对的第二表面，在光散射层中形成有多个孔，所述多个孔中的每个孔在第一表面与第二表面之间延伸；以及平面化层，其设置在光散射层上，并且包含第二材料，其中，第一材料和第二材料的折射率在1.8至2.6的范围内，当在与光散射层的厚度方向垂直的平面上测量时，所述多个孔的直径在350nm至450nm的范围内，所述多个孔在第一表面中占据的面积与第一表面的面积的比值为至少40％，并且平面化层的厚度为200nm或更小。

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