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龙图腾网恭喜株式会社富士申请的专利等离子体产生装置及等离子体处理方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114586473B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-02-18发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：201980101498.1，技术领域涉及：H05H1/24；该发明授权等离子体产生装置及等离子体处理方法是由岩田卓也设计研发完成，并于2019-10-22向国家知识产权局提交的专利申请。

本等离子体产生装置及等离子体处理方法在说明书摘要公布了：等离子体产生装置具备：装置主体，形成有用于使处理气体等离子体化的反应室；至少一个排出通路，与反应室连接；扩散室，与至少一个排出通路连接；及多个喷出通路，与扩散室连接，且喷出在上述反应室中被等离子体化的等离子体气体，在这多个喷出通路中的至少一个喷出通路的朝向扩散室的开口形成有锥面。

本发明授权等离子体产生装置及等离子体处理方法在权利要求书中公布了：1.一种等离子体产生装置，具备：装置主体，形成有用于使处理气体等离子体化的反应室；及喷嘴，安装于所述装置主体，喷出在所述反应室中被等离子体化的等离子体气体，所述装置主体具有用于将在所述反应室中被等离子体化的等离子体气体向所述装置主体的外部排出的排出通路，所述喷嘴具有：扩散室，形成为覆盖所述排出通路的朝向所述装置主体的外壁面的开口；及多个喷出通路，用于经由所述扩散室而喷出等离子体气体，所述多个喷出通路喷出在所述反应室中被等离子体化的等离子体气体，在所述多个喷出通路中的一个以上的喷出通路的朝向所述扩散室的开口形成有锥面，以使得所述一个以上的喷出通路的朝向所述扩散室的内部的开口侧的端部的内径逐渐变大，未在所述多个喷出通路的全部喷出通路的朝向所述扩散室的开口形成锥面，而是在所述多个喷出通路中的一部分喷出通路的朝向所述扩散室的开口形成有锥面，在所述喷嘴中排成一列地形成有多个喷出通路，所述锥面根据所述喷嘴的种类而以所述多个喷出通路的排成一列的方向上的中央为中心呈对称地形成于因所述等离子体气体的流动产生涡流的所述一部分喷出通路的朝向所述扩散室的开口。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人株式会社富士，其通讯地址为：日本爱知县知立市；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。