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龙图腾网恭喜东京毅力科创株式会社申请的专利基板处理装置以及基板处理方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN111211069B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-02-18发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：201911157723.1，技术领域涉及：H01L21/67；该发明授权基板处理装置以及基板处理方法是由稻富弘朗;枇杷聪;冈村聪设计研发完成，并于2019-11-22向国家知识产权局提交的专利申请。

本基板处理装置以及基板处理方法在说明书摘要公布了：本发明提供一种基板处理装置以及基板处理方法。谋求超临界干燥处理的効率化。本公开的基板处理装置为一种使用超临界状态的处理流体进行使基板干燥的干燥处理的基板处理装置，该基板处理装置具备处理容器和多个保持部。处理容器为进行干燥处理的容器。多个保持部在处理容器的内部分别保持不同的基板。

本发明授权基板处理装置以及基板处理方法在权利要求书中公布了：1.一种基板处理装置，其使用超临界状态的处理流体进行使基板干燥的干燥处理，其中，该基板处理装置具备：处理容器，其进行所述干燥处理；以及多个保持部，其在所述处理容器的内部分别保持不同的所述基板，所述多个保持部在所述处理容器的内部在铅垂方向上隔开间隔地排列，该基板处理装置还具备：第1盖体，其能够对在所述处理容器的第1侧面设置的第1开口进行开闭；以及第2盖体，其能够对在所述处理容器的第2侧面设置的第2开口进行开闭，所述多个保持部中的一部分的所述保持部设于所述第1盖体，所述多个保持部中的另一部分的所述保持部设于所述第2盖体，在所述处理容器的内部，所述多个保持部的所述一部分的所述保持部和所述多个保持部的所述另一部分的所述保持部交错地排列，从而能够在所述处理容器的内部形成从最上层依次流过各基板的上表面的所述处理流体的流动。

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