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龙图腾网恭喜安徽贝意克智能科技有限公司申请的专利一种多气源等离子增强CVD系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN111778493B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-02-18发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202010472004.5，技术领域涉及：C23C16/54；该发明授权一种多气源等离子增强CVD系统是由孔令杰;李晓丽;杜希文设计研发完成，并于2020-05-29向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种多气源等离子增强CVD系统在说明书摘要公布了：本发明公开了一种多气源等离子增强CVD系统，包括炉管、三温区加热炉膛、射频线圈、第一进气口、第一卷轴、进料仓、传动电机、第二进气口、出气口、蝶阀、第二卷轴、出料仓、分子泵、机械泵、风扇、挡板阀、射频电源、流量柜体、触摸屏操控板、复合真空计和蝶阀控制器；本发明是采用超大管径的炉管，在原有基础上能够使用更大面积的铜箔，得到更大面积的石墨烯膜，且增加了独立的低真空和高真空系统，并通过高真空快速的使得超大管径的炉管达到所需真空度，同时通过挡板阀可在无需停止分子泵的情况下，对超大管径的炉管进行低真空和高真空的自由切换，并精准控制其中的工作压力，使得超大管径的炉管内的化学反应能够保持统一、均匀。

本发明授权一种多气源等离子增强CVD系统在权利要求书中公布了：1.一种多气源等离子增强CVD系统，包括炉管（1）、三温区加热炉膛（2）、射频线圈（3）、第一进气口（4）、第一卷轴（5）、进料仓（6）、传动电机（7）、第二进气口（8）、出气口（9）、蝶阀（10）、第二卷轴（11）、出料仓（12）、分子泵（13）、机械泵（14）、风扇（15）、挡板阀（16）、射频电源（17）、流量柜体（18）、触摸屏操控板（19）、复合真空计（20）和蝶阀控制器（21），其特征在于，所述流量柜体（18）的顶部中心处通过螺栓固定有三温区加热炉膛（2），所述三温区加热炉膛（2）的内部设置有炉管（1），所述流量柜体（18）的顶部对应安装有两个风扇（15），所述风扇（15）的一侧嵌入有触摸屏操控板（19）；所述流量柜体（18）的顶部分别通过螺栓固定有进料仓（6）和出料仓（12），且进料仓（6）和出料仓（12）分别位于相邻风扇（15）的侧面处，所述进料仓（6）的内部通过轴承活动连接有第一卷轴（5），所述出料仓（12）的内部通过轴承活动连接有第二卷轴（11），所述进料仓（6）的一侧通过螺栓固定有传动电机（7），且传动电机（7）与第一卷轴（5）经联轴器相连接；所述炉管（1）的外侧开设有第一进气口（4）和第二进气口（8），且第一进气口（4）和第二进气口（8）的外缘处均套接有射频线圈（3），所述炉管（1）的外侧通过法兰活动连接有分子泵（13），所述流量柜体（18）的顶部通过螺栓固定有机械泵（14），且机械泵（14）位于分子泵（13）的侧面处，所述机械泵（14）与炉管（1）之间设置有真空管道，且真空管道的外侧安装有蝶阀（10），且炉管（1）与蝶阀（10）间的真空管道上开设有出气口（9），所述分子泵（13）的一侧安装有挡板阀（16）；所述流量柜体（18）的侧面处分别嵌入有射频电源（17）、复合真空计（20）和蝶阀控制器（21），且蝶阀控制器（21）与蝶阀（10）相电性连接，且复合真空计（20）经密封管道与炉管（1）相连通，且触摸屏操控板（19）与风扇（15）相电性连接，且射频电源（17）与射频线圈（3）相电性连接，所述传动电机（7）、分子泵（13）、机械泵（14）和挡板阀（16）均与外部电源电性连接；所述第一进气口（4）和第二进气口（8）均位于靠近出料仓（12）的位置处，所述出气口（9）位于靠近进料仓（6）的位置处；所述风扇（15）与流量柜体（18）之间通过螺栓固定，且两个风扇（15）分别位于三温区加热炉膛（2）的两侧面。

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