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恭喜东京毅力科创株式会社佐藤幹夫获国家专利权

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龙图腾网恭喜东京毅力科创株式会社申请的专利控制方法和等离子体处理装置获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN112735934B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-02-18发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202011131045.4,技术领域涉及:H01J37/32;该发明授权控制方法和等离子体处理装置是由佐藤幹夫;镰田英纪;池田太郎设计研发完成,并于2020-10-21向国家知识产权局提交的专利申请。

控制方法和等离子体处理装置在说明书摘要公布了:本发明提供一种控制方法和等离子体处理装置。对使用了相控阵天线的局部等离子体进行控制。作为利用相控阵天线的扫描型的等离子体处理装置的控制方法,具有以下工序:从设置于处理容器的多个部位的观察窗对在所述处理容器的内部生成的等离子体的发光进行观测;基于观测到的与所述等离子体的所述发光有关的数据,来计算表示所述等离子体的特性的值在基板上的面内分布;以及基于计算出的表示所述等离子体的所述特性的值在基板上的面内分布,来对所述等离子体的扫描图案和或等离子体密度分布进行校正。

本发明授权控制方法和等离子体处理装置在权利要求书中公布了:1.一种控制方法,对利用相控阵天线的扫描型的等离子体处理装置进行控制,该控制方法具有以下工序:从设置于处理容器的多个部位的观察窗,对在所述处理容器的内部生成的等离子体的发光进行观测;基于观测到的与所述等离子体的所述发光有关的数据,来计算表示所述等离子体的特性的值在基板上的面内分布;以及基于计算出的表示所述等离子体的所述特性的值在基板上的面内分布,来对所述等离子体的扫描图案和或等离子体密度分布进行校正,其中,所述控制方法还具有以下工序:向搭载了通过学习所述等离子体处理装置的与经过时间相应的等离子体密度分布的变化而获得的学习完成模型的推断装置输入从所述相控阵天线的天线部输出的功率和相位、所述等离子体处理装置的与经过时间相应的等离子体密度分布、经过时间来作为输入数据,以预测所述等离子体处理装置的与经过时间相应的等离子体密度分布的变化。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人东京毅力科创株式会社,其通讯地址为:日本东京都;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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