恭喜京东方科技集团股份有限公司;北京京东方传感技术有限公司唐粹伟获国家专利权
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龙图腾网恭喜京东方科技集团股份有限公司;北京京东方传感技术有限公司申请的专利阵列天线模块及其制备方法、相控阵天线系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115428260B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-02-18发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180000209.6，技术领域涉及：H01Q3/36；该发明授权阵列天线模块及其制备方法、相控阵天线系统是由唐粹伟;丁天伦;武杰;贾皓程;王瑛;曲峰;车春城设计研发完成，并于2021-02-09向国家知识产权局提交的专利申请。
本阵列天线模块及其制备方法、相控阵天线系统在说明书摘要公布了：一种阵列天线模块，包括：馈电结构、移相结构和辐射结构。所述馈电结构与所述移相结构连接，所述移相结构与所述辐射结构连接。所述馈电结构、所述移相结构和所述辐射结构均设置在玻璃基板上。
本发明授权阵列天线模块及其制备方法、相控阵天线系统在权利要求书中公布了：1.一种阵列天线模块，包括：馈电结构、移相结构和辐射结构；所述馈电结构与所述移相结构连接，所述移相结构与所述辐射结构连接；所述馈电结构、所述移相结构和所述辐射结构均设置在玻璃基板上；所述玻璃基板包括：第一基板、位于所述第一基板一侧的第二基板、位于所述第二基板远离所述第一基板一侧的第三基板；所述馈电结构和移相结构设置在所述第一基板和第二基板之间；所述辐射结构至少设置在所述第三基板的一侧；其中，所述移相结构包括：位于所述第一基板和第二基板之间的第一介质层、位于所述第二基板靠近第一介质层一侧的第一导电层、位于所述第一基板靠近第一介质层一侧的第二导电层；所述第二导电层在所述第二基板上的正投影与第一导电层在第二基板上的正投影部分交叠；所述馈电结构包括：位于所述第一基板和第二基板之间的第二介质层、位于所述第二介质层一侧的第三导电层；所述第三导电层与所述第一导电层或第二导电层为同层结构；所述第二介质层在第二基板上的正投影与第一介质层在第二基板上的正投影没有交叠；所述第一介质层和第二介质层之间通过密封胶隔离。
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