恭喜日东电工株式会社水野瑞穗获国家专利权
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龙图腾网恭喜日东电工株式会社申请的专利粘接剂层、层叠体、光学层叠体及光学层叠体的制造方法、以及光学装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115135738B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-02-18发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180015744.9，技术领域涉及：C09J7/38；该发明授权粘接剂层、层叠体、光学层叠体及光学层叠体的制造方法、以及光学装置是由水野瑞穗;田中亚树子;小坂尚史;中村恒三设计研发完成，并于2021-02-19向国家知识产权局提交的专利申请。
本粘接剂层、层叠体、光学层叠体及光学层叠体的制造方法、以及光学装置在说明书摘要公布了：本发明提供一种粘接剂层20a，其在使用了旋转式流变仪的蠕变试验中，在50℃下施加10000Pa的应力1秒钟时的蠕变变形率为10％以下，并且在50℃下施加10000Pa的应力30分钟时的蠕变变形率为16％以下，相对于PMMA膜的180°剥离粘接力为10mN20mm以上。
本发明授权粘接剂层、层叠体、光学层叠体及光学层叠体的制造方法、以及光学装置在权利要求书中公布了：1.一种光学层叠体，其具有：第1光学片，其具备具有凹凸结构的第1主面及与所述第1主面相反侧的第2主面；和粘接剂层，其配置于所述第1光学片的所述第1主面侧，所述凹凸结构包含多个凹部，所述粘接剂层的表面和所述第1光学片的所述第1主面在所述多个凹部划定多个空间，所述凹凸结构包含与所述粘接剂层相接的平坦部，所述粘接剂层在使用了旋转式流变仪的蠕变试验中，在50℃下施加10000Pa的应力1秒钟时的蠕变变形率为10％以下，并且在50℃下施加10000Pa的应力30分钟时的蠕变变形率为16％以下，所述粘接剂层相对于PMMA膜的180°剥离粘接力为10mN20mm以上，所述粘接剂层包含下述1及2的聚合物中的至少一种，1甲基丙烯酸类聚合物，其是含氮甲基丙烯酸类单体与至少一种其它单体的共聚物，所述含氮甲基丙烯酸类单体具有含氮环状结构；2聚酯类聚合物。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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