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龙图腾网恭喜光驰科技(上海)有限公司申请的专利一种原子层沉积设备用自动密封装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114990527B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-02-18发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210694430.2，技术领域涉及：C23C16/44；该发明授权一种原子层沉积设备用自动密封装置是由魏晓庆;崔国东设计研发完成，并于2022-06-20向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种原子层沉积设备用自动密封装置在说明书摘要公布了：本发明涉及一种原子层沉积设备用自动密封装置，包括真空室底板、镀膜室底板以及位移驱动机构，其中所述真空室底板与所述位移驱动机构连接，所述真空室底板可在所述位移驱动机构的驱动下位移并对所述真空室的开口进行密封，所述镀膜室底板设置在所述真空室底板上且其可随着所述位移驱动机构的驱动对所述镀膜室的开口进行密封；所述镀膜室底板与所述真空室底板之间设置有位置调整机构，所述位置调整机构用于调整所述镀膜室底板与所述镀膜室之间的相对位置。本发明的优点是：实现真空室分别与大气及镀膜室的自动密封隔离、自动对位，有效地减少漏膜的可能，提高产品质量，无需频繁维护，降低成本，将可能存在的对人体的危害降到最低。

本发明授权一种原子层沉积设备用自动密封装置在权利要求书中公布了：1.一种原子层沉积设备用自动密封装置，用于原子层沉积设备的真空室和镀膜室的密封，其中所述镀膜室设置在所述真空室的内部，所述镀膜室和所述真空室上分别具有位置对应的开口，其特征在于：该自动密封装置包括真空室底板、镀膜室底板以及位移驱动机构，其中所述真空室底板与所述位移驱动机构连接，所述真空室底板可在所述位移驱动机构的驱动下位移并对所述真空室的开口进行密封，所述镀膜室底板设置在所述真空室底板上且其可随着所述位移驱动机构的驱动对所述镀膜室的开口进行密封；所述镀膜室底板与所述真空室底板之间设置有位置调整机构，所述位置调整机构用于调整所述镀膜室底板与所述镀膜室之间的相对位置；所述位置调整机构包括轴承座、滑座以及弹性件，所述滑座设置在所述真空室底板上，所述滑座的外侧通过滑动轴承连接所述轴承座，所述滑座的外侧连接所述镀膜室底板，所述弹性件设置在所述滑座与所述轴承座之间使两者可相对运动；所述镀膜室底板可通过滑座与所述轴承座之间的相对运动实现位置调整；所述真空室底板与所述位移驱动机构之间设置有弹性件。

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