恭喜临沂大学张红秀获国家专利权
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龙图腾网恭喜临沂大学申请的专利一种p-n异质结光电阴极材料及其制备方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN115354343B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-02-18发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202211039816.6,技术领域涉及:C25B1/02;该发明授权一种p-n异质结光电阴极材料及其制备方法是由张红秀;崔文硕;胡其图;郑秀文设计研发完成,并于2022-08-29向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种p-n异质结光电阴极材料及其制备方法在说明书摘要公布了:本发明公开了一种p‑n异质结光电阴极材料及其制备方法,属于半导体材料技术领域。所述光电阴极材料为层状包括:基底层;所述基底层上从下到上依次设置附着有Au层、Cu2O薄膜层、SnS2薄膜层和全氟磺酸聚合物薄膜层;所述全氟磺酸聚合物薄膜层表面负载有析氢催化剂;所述析氢催化剂为NiCoSex。本发明中,通过在Cu2O薄膜层表面负载SnS2薄膜层,Cu2O与SnS2形成了异质结,有利于光生电子‑空穴的分离,提高开路电压,并且通过在SnS2表面形成稳定致密全氟磺酸聚合物薄膜层和负载高效析氢催化剂NiCoSex,有助于降低光生电子‑空穴复合率,提高光电催化析氢的效率,并对电极进行保护,提高稳定性。
本发明授权一种p-n异质结光电阴极材料及其制备方法在权利要求书中公布了:1.一种p-n异质结光电阴极材料,其特征在于,所述光电阴极材料为层状,包括:基底层;所述基底层上从下到上依次设置附着有Au层、Cu2O薄膜层、SnS2薄膜层和全氟磺酸聚合物薄膜层;所述全氟磺酸聚合物薄膜层表面负载有析氢催化剂;所述析氢催化剂为NiCoSex;,所述Au层的厚度为100~200mm;所述Cu2O薄膜层的厚度为1.5~2.5μm;所述基底层为ITO导电玻璃层;所述Cu2O薄膜层中,Cu2O的微观晶体形貌为立方型晶体,所述Cu2O薄膜层整体为致密的不均匀微纳米锥阵列薄膜。
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