恭喜香港科技大学凌力获国家专利权
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龙图腾网恭喜香港科技大学申请的专利在高氯水环境中原位形成一氧化二氯的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115947442B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-02-18发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211189766.X，技术领域涉及：C02F1/76；该发明授权在高氯水环境中原位形成一氧化二氯的方法是由凌力;林川靖;商启设计研发完成，并于2022-09-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本在高氯水环境中原位形成一氧化二氯的方法在说明书摘要公布了：本发明涉及一种在水环境中原位生成一氧化二氯并能精准控制生成一氧化二氯浓度的方法，包括：向水环境中以2至5mgCl2L的剂量添加自由氯，在所述水环境中引发HOCl和或ClO‑转化生成一氧化二氯，其中所述水环境具有大于等于0.1M的初始氯离子浓度，其中所述自由氯选自HOCl、ClO‑、Cl2、Cl2O及其任意组合。生成的一氧化二氯的浓度可以通过调节自由氯浓度，水环境的氯离子浓度、pH值、所含的非氯阴阳离子的种类和浓度而精确控制，其中所述pH值为4.33‑8.60，所述非氯阴离子包含碳酸根、碳酸氢根、磷酸根、磷酸二氢根、磷酸一氢根等，以及其中所述阳离子包含钾离子、钠离子、镁离子等。
本发明授权在高氯水环境中原位形成一氧化二氯的方法在权利要求书中公布了：1.一种在水环境中原位生成一氧化二氯的方法，包括：向所述水环境以2至5mgCl2L的剂量添加自由氯，在所述水环境中引发HOCl和或ClO-的氯化以生成一氧化二氯；其中所述水环境具有大于等于0.2M的初始氯离子浓度，以及其中所述自由氯选自HOCl、ClO-、Cl2、Cl2O及其任意组合，其中氯离子通过将HOCl和或ClO-转化为Cl2并形成聚氯单阴离子，与HOClClO-反应进一步生成Cl2O，其中所述水环境的pH为4-9，以及其中聚氯单阴离子是Cln-，其中n≥3。
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