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龙图腾网恭喜苏州迈为科技股份有限公司;苏州迈正科技有限公司申请的专利用于清洗工艺腔室的方法及其应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115786879B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-02-18发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211482170.9，技术领域涉及：C23C16/44；该发明授权用于清洗工艺腔室的方法及其应用是由屈庆源;何学勇;周剑;闻二成;房现飞;王登志设计研发完成，并于2022-11-24向国家知识产权局提交的专利申请。

本用于清洗工艺腔室的方法及其应用在说明书摘要公布了：本申请公开了一种用于清洗工艺腔室的方法及其应用，属于真空镀膜生产设备技术领域。一种用于清洗工艺腔室的方法，包括：a启动远程等离子体系统，清洗工艺气体被激发成等离子体，远程等离子体供应至工艺腔室；b当远程等离子体系统工作达到稳定状态后，再开启工艺腔室内的射频电源系统，射频电源系统对位于工艺腔室中的远程等离子体再次激发增强，在清洗时间段期间使用远程等离子体系统和射频电源系统两者共同作用清洁工艺腔室；c当清洗工艺腔室完毕后，先关闭工艺腔室内的射频电源系统；d再关闭远程等离子体系统。本申请可以缓解当前清洗方式存在的刻蚀速率慢、刻蚀范围窄或不能全面覆盖的问题，可以提升清洗刻蚀效率及速率。

本发明授权用于清洗工艺腔室的方法及其应用在权利要求书中公布了：1.一种用于清洗工艺腔室的方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：a将清洗工艺气体通入远程等离子体系统，启动远程等离子体系统，气体被激发成等离子体，远程等离子体供应至工艺腔室；b当远程等离子体系统工作达到稳定状态后，再开启所述工艺腔室内的射频电源系统，所述射频电源系统对位于所述工艺腔室中所述远程等离子体再次激发增强，利用再次激发增强后的等离子体对所述工艺腔室进行清洗；并且，在清洗时间段期间使用所述远程等离子体系统和所述射频电源系统两者共同作用清洁所述工艺腔室；c当清洗所述工艺腔室完毕后，先关闭所述工艺腔室内的所述射频电源系统；d在关闭完所述射频电源系统之后，再关闭所述远程等离子体系统；所述清洗工艺气体包括吹扫气体和清洁气体，所述步骤a包括：a1对远程等离子体系统内腔室、气体输送管道和所述工艺腔室进行预处理，所述预处理包括利用所述吹扫气体对所述远程等离子体系统的内腔室、气体输送管道和工艺腔室进行吹扫，再启动远程等离子体系统；a2在启动远程等离子体系统之后，通入清洁气体，将经远程等离子体系统激发产生的等离子体供应至工艺腔室；开启所述工艺腔室内的射频电源系统之前，逐渐增加所述清洗工艺气体中所述清洁气体的流量，使得所述清洁气体和所述吹扫气体达到一定比值，其中，所述清洁气体的流量与所述吹扫气体的流量比例逐步增大或阶梯式增大；所述步骤d进一步包括：在关闭所述射频电源系统之后，且在关闭所述远程等离子体系统之前，仅通入吹扫气体，利用远程等离子体系统对吹扫气体进行激发，产生等离子体，利用等离子体对工艺腔室进行吹扫。

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