恭喜南开大学袁直获国家专利权
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龙图腾网恭喜南开大学申请的专利一种基于MOF模板法的长余辉材料及其制备方法和应用获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN116478687B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-02-18发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202211538531.7,技术领域涉及:C09K11/62;该发明授权一种基于MOF模板法的长余辉材料及其制备方法和应用是由袁直;颜子超;刘洋;王蔚;殷畅;孙梦杰设计研发完成,并于2022-12-01向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种基于MOF模板法的长余辉材料及其制备方法和应用在说明书摘要公布了:本发明公开了一种基于MOF模板法的长余辉材料及其制备方法和应用。本发明的制备方法包括如下步骤:1制备MOF模板:将卟啉类衍生物和金属源在溶剂中混合均匀后,经水热反应得到MOF模板;2制备前驱体:将步骤1得到的MOF模板再次分散于所述溶剂中,加入铬源,混合一段时间后,分离得到沉淀物,冻干后得到所述前驱体;3在空气氛围下,将步骤2得到的所述前驱体经高温处理后,得到所述长余辉材料。本发明使用MOF为前驱体,可以很好地排列金属离子的空间分布及元素比例,从而在煅烧过程中获得晶型更加规整,元素分布更加均匀的长余辉材料,进而有利于体系内部的晶格缺陷的形成,从而提高余辉材料的亮度及余辉的时长。
本发明授权一种基于MOF模板法的长余辉材料及其制备方法和应用在权利要求书中公布了:1.一种长余辉材料的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括如下步骤:(1)制备MOF模板:将卟啉类衍生物和金属源在溶剂中混合均匀后,经水热反应得到MOF模板;所述卟啉类衍生物选自含氨基或羧基的卟啉类衍生物;所述卟啉类衍生物和金属源的摩尔比为(0.05-0.07):(0.1-0.6);所述水热反应的条件包括:在150-200℃下反应10-24小时;所述金属源包括ZnOAc2和GaNO33,ZnOAc2和GaNO33的摩尔比为0.1-0.3:0.2-0.3;(2)制备前驱体:将步骤(1)得到的MOF模板再次分散于所述溶剂中,加入铬源,混合一段时间后,分离得到沉淀物,冻干后得到所述前驱体;所述铬源与MOF模板的质量比为(0.000288~0.00864):1;(3)在空气氛围下,将步骤(2)得到的所述前驱体经高温处理后,得到所述长余辉材料;所述长余辉材料中,Cr3+的掺杂量为大于0.001%且不大于1%;所述长余辉材料的平均粒径为10-1000nm;所述长余辉材料具有水稳定性和规整晶型;所述卟啉类衍生物选自四羧酸苯基卟啉、四氨基苯基卟啉、血卟啉单甲醚、二氢卟吩e6中的至少一种。
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