恭喜万华化学集团股份有限公司文放获国家专利权
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龙图腾网恭喜万华化学集团股份有限公司申请的专利一种低铜含量的异氰酸酯粗产品的制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116354853B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-02-18发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310004607.6，技术领域涉及：C07C263/20；该发明授权一种低铜含量的异氰酸酯粗产品的制备方法是由文放;董笑程;王振有;吴雪峰;王普照;岳永峰设计研发完成，并于2023-01-03向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种低铜含量的异氰酸酯粗产品的制备方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种低铜含量的异氰酸酯粗产品的制备方法，所述方法以铜消耗类物质及适用于光气化生产过程的惰性溶剂作为除铜添加剂，步骤包括将含异氰酸酯、光气和其他杂质的光化反应液脱除未反应的光气；脱除未反应的光气的光化反应液和所述除铜添加剂混合，超声条件下进行络合反应；得到的反应液降温析出Cu配合物，然后进行固液分离；固液分离后的液相使用氯化氢进行汽提处理，然后减压脱除惰性溶剂，得到低铜含量的异氰酸酯粗产品。经上述方法处理后异氰酸酯粗产品中铜杂质含量低于3ppm，从而有效改善产品质量，减少后续分离过程中系统堵塞问题，且工艺简便，运行成本低。
本发明授权一种低铜含量的异氰酸酯粗产品的制备方法在权利要求书中公布了：1.一种光气化反应过程中的除铜添加剂，其特征在于，包括：铜消耗类物质及适用于光气化生产过程的惰性溶剂；所述铜消耗类物质选自二环己基碳二亚胺、1,3-二异丙基碳二亚胺、具有通式1所示结构的化合物中的一种或多种， 式中，R1各自独立地选自n＝1；所述惰性溶剂选自间甲苯、二甲苯、氯苯和邻二氯苯中的一种或多种。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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