恭喜万华化学集团股份有限公司董超获国家专利权
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龙图腾网恭喜万华化学集团股份有限公司申请的专利一种光气化生产MDI用的MDA及其处理方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116162031B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-02-18发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310003587.0，技术领域涉及：C07C211/50；该发明授权一种光气化生产MDI用的MDA及其处理方法是由董超;赵东科;张金强;朱健;文放;夏以禄;张宏科设计研发完成，并于2023-01-03向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种光气化生产MDI用的MDA及其处理方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种光气化生产MDI用的MDA及其处理方法，采用HCl气体气提原料MDA，使MDA中的氧化产物（醌、亚胺）能快速的与MDA发生缩合反应，降低MDA中的氧化产物（醌、亚胺），HCl气提量与原料MDA质量比为（0.02‑0.1）:1，气提时间为1‑30min。同时采用负压精馏脱水，可以深度脱除反应生成的水分，在后续光气化反应过程中降低副反应的发生，提高反应收率，延长运行周期。该方法工艺简单，操作方便，运行成本低，可实现自动稳定控制，具有很强的工业适用性。
本发明授权一种光气化生产MDI用的MDA及其处理方法在权利要求书中公布了：1.一种光气化生产MDI用MDA的处理方法，其特征在于，将原料MDA送至MDA干燥塔中负压精馏，MDA干燥塔中下部通入HCl气体作为气提剂，HCl气体的气提量与原料MDA的质量比为0.02-0.1:1。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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