恭喜京东方科技集团股份有限公司王伟杰获国家专利权
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龙图腾网恭喜京东方科技集团股份有限公司申请的专利高精细掩膜板及其制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115928008B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-02-18发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310014705.8，技术领域涉及：C23C14/04；该发明授权高精细掩膜板及其制造方法是由王伟杰;薛金祥;张峰杰;孙中元;黄清雨;王路;黄华设计研发完成，并于2023-01-05向国家知识产权局提交的专利申请。
本高精细掩膜板及其制造方法在说明书摘要公布了：本申请实施例提供了一种高精细掩膜板及其制造方法。该掩膜板包括：主框架和包含像素开口图案的膜层组，膜层组是基于硅基或玻璃基的基板、以及干刻工艺制造得到的；膜层组固定在主框架的一侧。本申请的高精细掩膜板无需张网工艺，避免了因张网的位置精度较低带来的膜层蒸镀偏移的问题，而且本申请中的膜层组是基于硅基或玻璃基的基板、以及干刻工艺制造得到的，故本申请实施例的高精细掩膜板具有更高的像素密度和像素位置精度。
本发明授权高精细掩膜板及其制造方法在权利要求书中公布了：1.一种高精细掩膜板，其特征在于，包括：主框架和包含像素开口图案的膜层组，所述膜层组是基于硅基或玻璃基的基板、以及干刻工艺制造得到的；所述膜层组固定在所述主框架的一侧，所述膜层组包括：层叠的有机层、磁性金属层和应力控制层，所述有机层比所述应力控制层靠近所述主框架；还包括转接框架；所述膜层组设置在所述转接框架远离所述主框架的一侧；所述膜层组，是在所述高精细掩膜板蒸镀时的工作温度下，固定在所述转接框架的一侧的。
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