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申请/专利权人:四川大学
申请日:2023-07-03
公开(公告)日:2025-01-07
公开(公告)号:CN119264583A
专利技术分类:...四氟乙烯的均聚物或共聚物[2006.01]
专利摘要:本发明提供了一种超低介电损耗、高强度聚四氟乙烯复合膜的制备方法,由如下步骤实现:复合填料浆料制备、聚四氟乙烯分散液与复合填料浆料混合,再进行成膜干燥、烧结成型和收卷制备而成。本发明提供的聚四氟乙烯复合膜材料,具有介电损耗低、力学性能优良、膜结构均匀性和稳定性好、厚度可灵活调控、幅宽大、制备工艺简单可行的特点。
专利权项:1.一种超低介电损耗、高强度聚四氟乙烯复合膜的制备方法,在界面改性剂和增效剂中加入疏水性低介电功能填料制备成复合填料浆料,然后加入聚四氟乙烯分散液中,经过混合分散、成膜干燥、烧结成型和收卷制备成聚四氟乙烯复合膜,其特征在于:(1)所述的聚四氟乙烯分散液中聚四氟乙烯分子量为50~200万,聚四氟乙烯乳胶颗粒尺寸为150~220纳米;(2)所述的界面改性剂为与聚四氟乙烯胶粒和水的三相接触角小于90度且不与水混溶、分子量低于1000的非极性液体,包括分子量低于1000的聚有机硅氧烷、长链烷烃、脂肪醇及芳香醇等,如硅油、白油、正十二烷、十八醇、松油醇中的一种或多种的混合物,添加的质量为聚四氟乙烯分散液中固体质量的0.01~5%;(3)所述的增效剂为在上述界面改性剂中可增加其粘度且与水不混溶的油溶性材料,如改性氢化蓖麻油、有机膨润土、疏水改性丙烯酸酯、聚异丁烯、聚甲基丙烯酸酯、乙烯丙烯共聚物中的一种或多种的混合物,添加的质量为界面改性剂质量的0~5%;(4)所述的疏水性低介电功能填料为亲水接触角大于90度且10GHz下介电损耗小于0.002的功能填料,如疏水性SiO2、TiO2、h-BN、CeO2、Al2O3、MgTiO3等中的一种或多种的混合物,疏水性低介电功能填料的粒径范围为20纳米~10微米,添加的质量为聚四氟乙烯固体质量的0.1~80%;(5)所述的复合填料浆料为将界面改性剂、增效剂和疏水性低介电功能填料加入行星式搅拌器以每分钟1000~2000转的转速高速搅拌2~10分钟制得;(6)所述的混合分散包括以下步骤:在聚四氟乙烯分散液中加入复合填料浆料,使用旋浆式或行星式搅拌器以每分钟1000~2000转的转速高速搅拌2~10分钟,再以每分钟500~800转的转速低速搅拌2~10分钟,制备出聚四氟乙烯复合分散液;(7)所述的成膜干燥为在合适的基底材料上进行聚四氟乙烯复合分散液的流延、刮涂或者旋涂,并在适宜温度下进行干燥;(8)所述的聚四氟乙烯复合膜能与基底材料完全剥离并收卷,膜厚度范围为5~200微米。
百度查询: 四川大学 一种超低介电损耗、高强度聚四氟乙烯复合膜的制备方法
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