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摘要：本发明提供一种即使在长期保存情况下也能得到LWR性能优异的图案的感光化射线性或感辐射线性树脂组合物。并且，提供一种与上述感光化射线性或感辐射线性树脂组合物相关的抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法。感光化射线性或感辐射线性树脂组合物包含由通式I表示的化合物和酸分解性树脂。M1+A‑‑L‑B‑M2+I
主权项：1.一种感光化射线性或感辐射线性树脂组合物，其包含由通式I表示的化合物和酸分解性树脂，M1+A--L-B-M2+I通式I中，M1+及M2+分别独立地表示有机阳离子，L表示2价的有机基团，A-表示酸性阴离子基团，其中，在由通式I表示的化合物的M1+及M2+分别被氢原子取代的由HA-L-BH表示的化合物中，由HA表示的基团的pKa低于由BH表示的基团的pKa，B-表示由通式B-1、B-2、B-4中任一个表示的基团， 所述通式B-1、B-2、B-4中，*表示键合位置，RB表示环烷基或芳香环基。
权利要求：
百度查询： 富士胶片株式会社 感光化射线性或感辐射线性树脂组合物、抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法
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