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摘要：一种目标版图的修正方法、掩膜版版图的形成方法及其掩膜版，修正方法包括：提供初始目标版图，所述初始目标版图包括若干初始图形；对所述初始目标版图进行模拟曝光获取模拟曝光版图，所述模拟曝光版图上具有若干与初始图形对应的模拟曝光图形，所述模拟曝光版图包括沿第一方向排列的若干修正区；在至少一个所述修正区的模拟曝光图形中获取目标图形；获取所述目标图形对应的修正区的修正规则；通过所述修正规则对所述目标图形进行修正，获取修正图形。所述修正方法得到的掩膜版版图修正效果较好，精度较高。
主权项：1.一种目标版图的修正方法，其特征在于，包括：提供初始目标版图，所述初始目标版图包括若干初始图形，所述初始目标版图包括沿第一方向排列的若干待修正区；对所述初始目标版图进行模拟曝光获取模拟曝光版图，每一个待修正区具有对应的曝光模型，对每个待修正区采用对应的曝光模型进行模拟曝光，所述模拟曝光版图上具有若干与初始图形对应的模拟曝光图形，所述模拟曝光版图包括沿第一方向排列的若干修正区；在至少一个所述修正区的模拟曝光图形中获取目标图形；每个修正区具有对应的修正规则，获取所述目标图形对应的修正区的修正规则，每个修正区对应的所述修正规则包括分割规则和偏移规则；所述分割规则包括将所述目标图形的轮廓分割成预设数量的线段，且每段所述线段具有预设长度；所述偏移规则包括将各段所述线段以预设偏移量进行偏移；通过所述修正规则对所述目标图形进行修正，获取修正图形，对所述目标图形进行修正的方法包括：将所述目标图形的轮廓分割成预设数量的若干线段；在所述若干线段中获取待修正线段，所述待修正线段为边缘放置误差大于第一预设值时的线段；将所述待修正线段偏移所述预设偏移量，获取修正线段；以修正线段替代对应的待修正线段，形成所述修正图形。
权利要求：
百度查询： 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司 目标版图的修正方法及掩膜版版图的形成方法
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