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摘要：本发明提供一种磁控溅射设备及磁控溅射方法，属于材料制备加工技术领域，该磁控溅射设备包括基座、位于基座上的基材加热装置以及位于基材加热装置上的磁控溅射装置，磁控溅射装置包括从下往上依次设置的镀膜室、真空室、磁场发生装置和溅射阴极冷却装置，溅射阴极冷却装置包括冷却室、位于冷却室左端的进水管、位于冷却室右端的出水管、用于对出水管内冷却水温度进行检测的温度传感器以及用于调节冷却室内水流量的调节组件，出水管的一端与冷却室内连通，用于将冷却室内的水导入镀膜室对其进行降温，能够对循环冷却水流量进行调节，使得水与溅射阴极具有较合适的接触时间，使得装置既能起到较好的降温效果，也能够避免造成资源的浪费。
主权项：1.一种磁控溅射设备，包括基座、位于基座上的基材加热装置（1）以及位于基材加热装置（1）上的磁控溅射装置（2），磁控溅射装置（2）包括从下往上依次设置的镀膜室（21）、真空室（22）、磁场发生装置（23）和溅射阴极冷却装置（24），其特征在于，溅射阴极冷却装置（24）包括冷却室（241）、位于冷却室（241）左端的进水管（242）、位于冷却室（241）右端的出水管（243）、用于对出水管（243）内冷却水温度进行检测的温度传感器以及用于调节冷却室（241）内水流量的调节组件（244），出水管（243）的一端与冷却室（241）内连通，另一端与镀膜室（21）连通，用于将冷却室（241）内的水导入镀膜室（21）对其进行降温；调节组件（244）包括位于冷却室（241）右端并与冷却室（241）相连通的控制箱（2441）以及位于冷却室（241）并沿上下方向滑动的调节板（2442），调节板（2442）的右侧为自上往下向右逐渐倾斜的倾斜面，控制箱（2441）沿左右方向滑动套接有调节块（2443），调节块（2443）的左侧为自下往上向左倾斜的倾斜面，调节块（2443）的倾斜面与调节板（2442）的倾斜面相互抵触，调节块（2443）的右侧与控制箱（2441）内壁之间设有伸缩杆（2444）。
权利要求：
百度查询： 苏州华博电子科技有限公司 一种磁控溅射设备及磁控溅射方法
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