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摘要：本发明涉及半导体技术领域，具体提供一种合成射流激励器、MEMS装置以及合成射流激励器的制备方法，旨在解决现有合成射流激励器难以微型化的问题。为此目的，本发明提供一种合成射流激励器，包括：第一玻璃基板，包括第一侧壁和由所述第一侧壁围绕的腔体，其中所述腔体具有第一开口；振膜，设置在所述第一玻璃基板与所述第一开口相对的一侧，包括与所述第一开口相对的第二开口；压电振子，设置在所述振膜远离所述第一玻璃基板的表面上。在采用上述技术方案的情况下，本发明能够提供微型化的合成射流激励器，以满足MEMS装置的散热需求。
主权项：1.一种合成射流激励器，其特征在于，包括：第一玻璃基板，包括第一侧壁和由所述第一侧壁围绕的腔体，其中所述腔体具有第一开口；振膜，设置在所述第一玻璃基板与所述第一开口相对的一侧，包括与所述第一开口相对的第二开口；压电振子，设置在所述振膜远离所述第一玻璃基板的表面上。
权利要求：
百度查询： 京东方科技集团股份有限公司 合成射流激励器、MEMS装置以及合成射流激励器的制备方法
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