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摘要：本申请公开一种电子器件的制备方法及电子器件，涉及微电子技术领域，能够提高电子器件产品的良率。电子器件的制备方法包括：在硅片的一侧依次设置第一介质层和第二介质层；在第二介质层远离硅片的一侧设置光刻胶，以及利用光刻工艺对光刻胶进行图形化处理，以在光刻胶上形成多个第一过孔；通过第一过孔对第二介质层进行刻蚀，以在第二介质层形成多个第二过孔，第一过孔与第二过孔连通；通过第二过孔，去除第一介质层，以在第二介质层形成空腔结构，得到过渡基片；对空腔结构进行至少两次干燥处理，其中，至少一次干燥处理是利用异丙醇进行的。
主权项：1.一种电子器件的制备方法，其特征在于，包括：在硅片的一侧依次设置第一介质层和第二介质层，其中，所述第二介质层包覆所述第一介质层；在所述第二介质层远离所述硅片的一侧设置光刻胶，以及利用光刻工艺对所述光刻胶进行图形化处理，以在所述光刻胶上形成多个第一过孔；通过所述第一过孔对所述第二介质层进行刻蚀，以在所述第二介质层形成多个第二过孔，所述第一过孔与所述第二过孔连通；通过所述第二过孔，去除所述第一介质层，以在所述第二介质层形成空腔结构，得到过渡基片，其中，所述第二过孔与所述空腔结构连通，所述第二过孔在所述硅片上的正投影落在所述空腔结构在所述硅片上的正投影内；对所述空腔结构进行至少两次干燥处理，其中，至少一次干燥处理是利用异丙醇进行的。
权利要求：
百度查询： 赛莱克斯微系统科技(北京)有限公司 一种电子器件的制备方法及电子器件
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