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摘要：本实用新型属于硅片清洗技术领域，具体涉及一种硅片背面粗洗模组，包括：一对镜像设置的支撑架，支撑架上转动设置有若干主动辊和若干被动辊，主动辊和被动辊之间支撑有传送带，传送带的底部与硅片的顶部齐平；设置在支撑架之间的吸附组件，传送带上开设有若干吸附孔，以使吸附组件能够吸附硅片的顶部；若干设置在支撑架底部的清洁组件，清洁组件包括转动设置清洁辊，清洁辊的顶部与硅片的底部齐平；通过设置吸附组件，正面清洗完成的硅片被输送到吸附组件的底部，从而能稳定露出硅片的底部；通过设置清洁组件，清洁辊上适于放置清洗介质，清洁辊转动且能贴合硅片的底部，对硅片的背面进行清洗，提高了清洗效率，降低了清洗设备的成本。
主权项：1.一种硅片背面粗洗模组，其特征在于，包括：一对镜像设置的支撑架，所述支撑架上转动设置有若干主动辊和若干被动辊，所述主动辊和所述被动辊之间支撑有传送带，所述传送带的底部与硅片的顶部齐平；设置在所述支撑架之间的吸附组件，所述传送带上开设有若干贯穿孔，以使所述吸附组件能够吸附硅片的顶部；若干设置在所述支撑架底部的清洁组件，所述清洁组件包括转动设置清洁辊，所述清洁辊的顶部与硅片的底部齐平。
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百度查询： 常州捷佳创精密机械有限公司 一种硅片背面粗洗模组
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