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摘要：本申请属于显示领域，具体涉及一种显示面板的制作方法及显示面板，制作方法包括：依次形成栅极、信号线、栅绝缘膜层、半导体膜层和第一光刻胶层，利用半透掩膜板曝光显影第一光刻胶层形成遮挡栅极的第一图案和遮挡信号线的第二图案，第二图案至少部分区域的厚度小于第一图案的厚度，再刻蚀第一光刻胶层、半导体膜层和栅绝缘膜层形成第三图案和第四图案，第四图案至少暴露信号线的一部分，再形成源漏极和金属走线，金属走线与信号线连接。本申请利用半透掩膜板曝光第一光刻胶层，使第二图案至少部分区域的厚度小于第一图案的厚度，再刻蚀暴露外围导通区的信号线，使金属走线与信号线连接，不需要单独制作掩膜板，降低了显示面板的制作成本。
主权项：1.一种显示面板的制作方法，其特征在于，包括：在衬底基板上形成第一金属层，所述第一金属层包括栅极和信号线；在所述衬底基板上形成栅绝缘膜层，所述栅绝缘膜层覆盖所述栅极和所述信号线；在所述栅绝缘膜层远离所述衬底基板一侧形成半导体膜层；在所述半导体膜层远离所述衬底基板一侧形成第一光刻胶层，利用半透掩膜板曝光所述第一光刻胶层，显影所述第一光刻胶层形成第一图案和第二图案，所述第一图案遮挡所述栅极，所述第二图案遮挡所述信号线，所述第二图案至少部分区域的厚度小于所述第一图案的厚度；刻蚀所述第一光刻胶层、所述半导体膜层和所述栅绝缘膜层，形成覆盖所述栅极的第三图案和第四图案，所述第三图案包括所述半导体膜层的一部分，所述第四图案至少暴露所述信号线的一部分；形成第二金属层，所述第二金属层包括源漏极和金属走线，所述源漏极通过所述第三图案与所述栅极连接，所述金属走线与所述信号线连接。
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百度查询： 长沙惠科光电有限公司 惠科股份有限公司 显示面板的制作方法及显示面板
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