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一种石英坩埚镀膜装置 

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摘要:本发明涉及石英坩埚生产技术领域,具体为一种石英坩埚镀膜装置,包括:喷镀舱、喷涂组件和多维坩埚支架,喷涂组件用于在镀膜过程中将镀膜材料均匀喷射到坩埚表面,而多维坩埚支架负责通过多轴旋转系统使坩埚从不同角度接受喷涂,装置还配备了真空和排气系统、气体供给系统和气氛加热系统,分别负责控制喷镀舱内的真空环境、气体供给以及加热条件。本发明中,通过高集成度的多维坩埚支架,具有水平轴向和竖直轴向的灵活旋转功能,使坩埚在镀膜过程中可以从多个角度接受喷涂,使其在水平和竖直两个轴向上的旋转和定位更加精准,确保了镀膜过程的精确控制,有效提升了镀膜厚度的均匀性和一致性。

主权项:1.一种石英坩埚镀膜装置,其特征在于,包括:喷镀舱(100)、喷涂组件(200)和多维坩埚支架(300),所述喷涂组件(200)与多维坩埚支架(300)均固定设置于喷镀舱(100)的内部;所述喷镀舱(100)的表面设有:真空及排气系统(110),用于对喷镀舱(100)内进行抽气,达到预定的真空度,并排放镀膜过程中产生的废气;气体供给系统(120),与喷涂组件(200)的输入端连通,用于提供镀膜过程中所需的反应气体,并精确控制气体流量与比例;气氛加热系统(130),用于为镀膜过程提供恒定且均匀的温度环境,确保腔室内温度的稳定性;控制系统(140),用于监控和调控镀膜过程中各项参数,包括温度、压力、气体流量以及坩埚和喷涂组件的运动状态;可视窗口(101),设置于喷镀舱(100)表面,用于观察镀膜过程中的舱内运行状态。

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