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基于离子注入制备钝化接触区的方法、钝化接触电池及其制备方法 

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摘要:本发明给出一种基于离子注入技术制备钝化接触区的方法,首先将化学气相沉积的多晶硅进行充分晶化,接着通过离子注入硼或磷对多晶硅进行掺杂,然后采用快速热处理激活注入的硼或磷的掺杂原子,并控制掺杂的硼或磷更少地进入硅衬底中。这种方法通过结合硼或磷离子注入和快速热处理技术,能够获得接近理想设计的钝化接触区的硼或磷的掺杂分布曲线,因此能获得高质量的空穴钝化接触区和电子钝化接触区。基于此,本发明还公开一种采用上述方法制备钝化接触电池的方法以及相应得到的钝化接触电池。

主权项:1.一种基于离子注入制备钝化接触区的方法,其特征在于,包括:提供一种硅衬底;在所述硅衬底表面制备隧穿氧化硅;在所述隧穿氧化硅上制备本征多晶硅或本征非晶硅,然后将本征多晶硅或本征非晶硅所处环境温度升高至800-900℃,使所述本征多晶硅充分晶化,或者所述本征非晶硅先晶化成本征多晶硅后再充分晶化;采用离子注入硼或磷对充分晶化后的本征多晶硅进行掺杂;采用快速热处理完成硼或磷掺杂的激活以及在本征多晶硅内的再分布。

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