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摘要：一种光刻设备，包括：照射系统、支撑件、投影系统以及衬底台。衬底台包括：台座，包括表面；以及具有不均匀厚度的涂层，被设置在台座的表面上。台座相对于名义平坦度的偏转是由涂层引起的应力的函数，其中涂层的横截面轮廓至少基于应力和不均匀厚度，其中涂层的表面是实质上平坦的，并且其中涂层的表面被配置为在衬底台支撑衬底时接触衬底。
主权项：1.一种光刻设备，包括：照射系统，被配置为产生辐射束；支撑件，被配置为支撑图案形成装置，该图案形成装置被配置为在束上赋予图案；投影系统，被配置为将图案化束投影到衬底上；以及衬底台，被配置为支撑衬底，该衬底台包括：台座，包括表面；以及具有不均匀厚度的涂层，被设置在台座的表面上，其中台座相对于名义平坦度的偏转是由涂层引起的应力的函数，其中涂层的横截面轮廓至少基于应力和不均匀厚度，其中涂层的表面是实质上平坦的，并且其中涂层的表面被配置为在衬底台支撑衬底时接触衬底。
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百度查询： ASML控股股份有限公司 光刻设备、衬底台和不均匀涂层方法
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