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单体、聚合物、化学增幅负型抗蚀剂组成物及图案形成方法 

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摘要:本发明涉及单体、聚合物、化学增幅负型抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题是提供一种可获得改善图案形成时的分辨度,且LER及分辨度、图案忠实性、剂量宽容度经改善的抗蚀剂图案的化学增幅负型抗蚀剂组成物,以及提供一种抗蚀剂图案形成方法。该课题的解决手段为一种下式A1表示的单体、含有来自该单体的重复单元的聚合物、及含有包含该聚合物的基础聚合物的化学增幅负型抗蚀剂组成物。

主权项:1.一种单体,以下式A1表示; 式中,a为0~4的整数;RA为氢原子、氟原子、甲基或三氟甲基;LA为-Ο-或-NH-;LB为单键、醚键、酯键或酰胺键;XL为单键或也可含有杂原子的碳数1~40的亚烃基;R1为卤素原子或也可含有杂原子的碳数1~20的烃基;R2及R3分别独立地为氢原子、碳数1~15的饱和烃基或碳数6~15的芳基,且该烃基也可被羟基或碳数1~6的饱和烃基氧基取代,且该芳基也可具有取代基;但,R2及R3不会同时为氢原子;又,R2及R3也可互相键结并和它们所键结的碳原子一起形成环,且该环的-CH2-的一部分也可被-O-或-S-取代;W1为氢原子、碳数1~10的脂肪族烃基、碳数2~10的脂肪族烃基羰基或碳数6~15的芳基,且该芳基也可具有取代基。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 信越化学工业株式会社 单体、聚合物、化学增幅负型抗蚀剂组成物及图案形成方法

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