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摘要:本发明涉及硅片烘干技术领域,尤其涉及一种隧道烘干装置及其烘干方法,隧道烘干装置包括:烘干箱体、输送轨道、第一驱动件以及烘干机构,输送轨道贯穿烘干箱体,且输送轨道用于承载并输送花篮,第一驱动件位于输送轨道的上料位,并用于调节相邻两个花篮之间的间距,烘干机构包括:送风部、第一烘干部以及第二烘干部,送风部安装在烘干箱体的侧壁上,第一烘干部、第二烘干部均与送风部相连通,第一烘干部、第二烘干部均位于烘干箱体的内部,且第一烘干部位于花篮的上方,第二烘干部位于花篮的下方。本发明第一烘干部从上往下吹风,第二烘干部从下往上吹风,对花篮进行烘干作业,该方式能够将硅片的烘干时间缩短至500S,并能够提高硅片的烘干效果。
主权项:1.一种隧道烘干装置,其特征在于,包括:烘干箱体1,以及输送轨道2,所述输送轨道2贯穿所述烘干箱体1,且所述输送轨道2用于承载并输送花篮3;第一驱动件4,所述第一驱动件4位于所述输送轨道2的上料位,并用于调节相邻两个所述花篮3之间的间距;烘干机构5,所述烘干机构5包括:送风部6、第一烘干部7以及第二烘干部8,所述送风部6安装在所述烘干箱体1的侧壁上,所述第一烘干部7、所述第二烘干部8均与所述送风部6相连通,所述第一烘干部7、所述第二烘干部8均位于所述烘干箱体1的内部,且所述第一烘干部7位于所述花篮3的上方,所述第二烘干部8位于所述花篮3的下方;其中:所述第一烘干部7用于从所述花篮3的顶部对所述花篮3进行烘干作业,所述第二烘干部8用于从所述花篮3的底部对所述花篮3进行烘干作业。
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