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摘要：本发明公开了本发明的目的在于提供一种用于单晶硅片清洗机的循环换药液方法及系统，通过判断进入各碱性药液槽体的待清洗硅片的数量参数n是否等于N或者2N+1或者3N+2或者4N+3，满足时将进行相应碱性药液槽体的药液更换，同时其余三个碱性药液槽体正常进行清洗工作，无需停机等待，提高了硅片清洗效率。
主权项：1.一种用于单晶硅片清洗机的循环换药液方法，其特征在于，所述方法具体包括以下步骤：S1、将待清洗硅片放置于清洗机内，设定碱性药液槽Ⅰ、碱性药液槽Ⅱ、碱性药液槽Ⅲ、碱性药液槽Ⅳ中的初始容纳数量分别为N,2N+1,3N+2,4N+3，待清洗硅片依次输送进入碱性药液槽Ⅰ、碱性药液槽Ⅱ、碱性药液槽Ⅲ、碱性药液槽Ⅳ中的数量参数为n，判断所述n是否等于N或者2N+1或者3N+2或者4N+3；若是，根据初始容纳数量启动对应碱性药液槽进行药液更换工作，其余三个碱性药液槽同步进行清洗工作，若否，则转到步骤S2；S2、继续输送待清洗硅片，直至待清洗硅片在碱性药液槽Ⅰ、碱性药液槽Ⅱ、碱性药液槽Ⅲ、碱性药液槽Ⅳ中的数量参数n等于N或者2N+1或者3N+2或者4N+3时更换对应碱性药液槽的药液；S3、更换药液过程中，经过对应碱性药液槽的待清洗硅片的数量参数为0，直至药液更换完毕，重新计算对应碱性药液槽内的待清洗硅片数量参数n，判断n是否等于N或者2N+1或者3N+2或者4N+3，若满足，重复步骤S1、S3。
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百度查询： 乐山市京运通半导体材料有限公司 一种用于单晶硅片清洗机的循环换药液方法及系统
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