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摘要：本发明提供一种曝光单元摆放位置的优化方法，包括：设定曝光单元中器件的权重；选取所述曝光单元上的多个初始点，采用贝叶斯优化算法多次迭代获得所述曝光单元的x方向偏移量和y方向偏移量，得到所述曝光单元的摆放位置。本发明的优化方法可以应对曝光单元中包含不同权重器件的情况，且最终获得的摆放位置能够包含足够多的高权重器件；同时可以采用较少的点得到优化的摆放位置，减少了计算量，优化了计算效率。
主权项：1.一种曝光单元摆放位置的优化方法，其特征在于，包括：设定曝光单元中器件的权重；选取所述曝光单元上的多个初始点，采用贝叶斯优化算法多次迭代获得所述曝光单元的x方向偏移量和y方向偏移量，得到所述曝光单元的摆放位置。
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百度查询： 芯恩(青岛)集成电路有限公司 曝光单元摆放位置的优化方法
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