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显影装置、基板处理系统以及显影方法 

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摘要:本发明涉及显影装置、基板处理系统以及显影方法。得到含金属抗蚀剂的良好的图案。一种显影装置,其对形成有含金属抗蚀剂的覆膜的基板进行显影,其中,该显影装置具备:加热部,其支承并加热所述基板;腔室,其覆盖所述加热部,在所述加热部上形成处理空间;气体供给部,其供给含有酸的显影气体;以及分散机构,其使供给到所述气体供给部的所述显影气体分散,并自形成于所述加热部的上方的位置的多个喷出孔向所述处理空间喷出。

主权项:1.一种显影装置,其对形成有含金属抗蚀剂的覆膜的基板进行显影,其中,该显影装置具备:加热部,其支承并加热所述基板;腔室,其覆盖所述加热部,在所述加热部上形成处理空间;气体供给部,其供给含有酸的显影气体;以及分散机构,其使供给到所述气体供给部的所述显影气体分散,并自形成于所述加热部的上方的位置的多个喷出孔向所述处理空间喷出。

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