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摘要：本发明涉及曝光装置、曝光方法以及物品制造方法。提供有利于兼顾生产节拍提高和针对成像特性的变动的校正精度提高技术。曝光装置具有投影光学系统，将掩模的图案向基板投影；测量部，测量投影光学系统的成像特性；调整部，调整投影光学系统的成像特性；以及控制部，按照模型式来预测因投影光学系统吸收曝光能量而产生的成像特性的变动，并基于该预测的结果来控制调整部，控制部根据第1预测值与第2预测值之差超过容许范围，实施测量部的接下来的测量，第1预测值是根据应用了预先设定的第1系数值的第1模型式计算出的成像特性的预测值，第2预测值是根据应用了基于测量部的测量的结果而决定的第2系数值的第2模型式计算出的成像特性的预测值。
主权项：1.一种曝光装置，对基板进行曝光，其特征在于，该曝光装置具有：投影光学系统，将掩模的图案向所述基板投影；测量部，测量所述投影光学系统的成像特性；调整部，调整所述投影光学系统的成像特性；以及控制部，根据模型式来预测因所述投影光学系统吸收曝光能量而产生的所述成像特性的变动，并基于该预测的结果来控制所述调整部，所述控制部根据第1预测值与第2预测值之差超过了容许范围，而实施所述测量部的接下来的测量，所述第1预测值是根据应用了预先设定的第1系数值的第1模型式计算出的所述成像特性的预测值，所述第2预测值是根据应用了基于所述测量部的测量的结果而决定的第2系数值的第2模型式计算出的所述成像特性的预测值。
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百度查询： 佳能株式会社 曝光装置、曝光方法以及物品制造方法
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