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摘要：本发明公开了一种结构光调制的暗场显微缺陷三维测量装置与方法，所述三维测量装置包括光源、空间光调制器、第一透镜、分光镜、显微物镜、第二透镜、第三透镜、滤波器、第四透镜和CCD；所述空间光调制器用于接收光源发出的光并调制成结构光；所述空间光调制器调制的结构光依次经过第一透镜、分光镜和显微物镜微缩投影至样品上并在样品上反射形成零级光和一级光；所述零级光依次经过显微物镜、第二透镜和第三透镜达到滤波器；所述一级光依次经过显微物镜、第二透镜、第三透镜和第四透镜到达CCD成像。本发明解决了现有无损检测方法存在照明背景光和离焦光干扰缺陷散射光成像的问题。
主权项：1.一种结构光调制的暗场显微缺陷三维测量装置，其特征在于，包括光源1、空间光调制器2、第一透镜3、分光镜4、显微物镜5、第二透镜9、第三透镜10、滤波器11、第四透镜12和CCD13；所述空间光调制器2用于接收光源1发出的光并调制成结构光；所述空间光调制器2调制的结构光依次经过第一透镜3、分光镜4和显微物镜5微缩投影至样品6上并在样品6上反射形成零级光14和一级光15；所述零级光14依次经过显微物镜5、第二透镜9和第三透镜10达到滤波器11；所述一级光15依次经过显微物镜5、第二透镜9、第三透镜10和第四透镜12到达CCD13成像；所述滤波器11置于第三透镜10和第四透镜12之间，所述第三透镜10的后焦面和第四透镜12的前焦面重合形成频谱面，所述滤波器11位于频谱面上；所述滤波器11的尺寸小于CCD13的孔径尺寸。
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百度查询： 中国工程物理研究院机械制造工艺研究所 一种结构光调制的暗场显微缺陷三维测量装置与方法
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