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摘要：本发明提供一种载置台和等离子体处理装置，该载置台包括用于支承基片和边缘环的静电吸盘和支承所述静电吸盘的基座，所述静电吸盘具有：第1区域，其具有第1上表面，能够支承所述第1上表面之上所载置的基片；第2区域，其具有第2上表面，并设置成与所述第1区域的周围成为一体，能够支承所述第2上表面之上所载置的边缘环；设置在所述第1区域中的用于施加直流电压的第1电极；设置在所述第2区域中的用于施加直流电压的第2电极；和用于施加偏置电功率的第3电极。根据本发明，能够抑制向基片的下表面与静电吸盘的上表面之间供给的传热气体的放电。
主权项：1.一种载置台，其特征在于，包括：用于支承基片和边缘环的静电吸盘；和支承所述静电吸盘的基座，所述静电吸盘具有：第1区域，其具有第1上表面，能够支承所述第1上表面之上所载置的基片；第2区域，其具有第2上表面，并设置成与所述第1区域的周围成为一体，能够支承所述第2上表面之上所载置的边缘环；设置在所述第1区域中的用于施加直流电压的第1电极；设置在所述第2区域中的用于施加直流电压的第2电极；和用于施加偏置电功率的第3电极，所述第3电极具有设置在所述第1区域中的第3-1电极和设置在所述第2区域中的第3-2电极，向所述第3-1电极施加的偏置电功率和向所述第3-2电极施加的偏置电功率能够被相互独立地控制，所述第3-1电极和所述第2电极配置在所述静电吸盘的同一面内。
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百度查询： 东京毅力科创株式会社 载置台和等离子体处理装置
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