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摘要：本申请公开一种磁控溅射设备阴极的清洗方法，包括：步骤S10、利用传送机构将第一挡板传送至所述工艺腔的相应位置，向所述工艺腔内送入溅射气体；步骤S20、使所述阴极处在第一工作状态，对预先固定在所述工艺腔内的第二挡板进行第一溅射镀膜；步骤S30、将所述阴极磁棒转动180度，使得所述阴极处在第二工作状态，对所述第一挡板进行第二溅射镀膜；步骤S40、交替进行步骤S20和步骤S30，直至完成清洗；步骤S50、将所述第一挡板从所述工艺腔移出。本申请通过交替对第一挡板和第二挡板进行溅射镀膜，可有效避免各挡板受高温而形变，并且有利于提升设备清洗阴极的效率。
主权项：1.磁控溅射设备阴极的清洗方法，其特征在于，所述磁控溅射设备包括内置所述阴极的工艺腔和传送机构，所述阴极包括靶材以及转动设置在所述靶材内部的阴极磁棒，所述阴极具有溅射方向相反的第一工作状态和第二工作状态，所述清洗方法包括以下步骤：步骤S10、利用传送机构将第一挡板传送至所述工艺腔的相应位置，向所述工艺腔内送入溅射气体；步骤S20、使所述阴极处在第一工作状态，对预先固定在所述工艺腔内的第二挡板进行第一溅射镀膜；步骤S30、将所述阴极磁棒转动180度，使得所述阴极处在第二工作状态，对所述第一挡板进行第二溅射镀膜；步骤S40、交替进行步骤S20和步骤S30，直至完成清洗；步骤S50、将所述第一挡板从所述工艺腔移出。
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百度查询： 安徽越好电子装备有限公司 磁控溅射设备阴极的清洗方法
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