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摘要：本申请涉及一种用于CVD碳化硅的防沉积炉及使用方法，一种用于CVD碳化硅的防沉积炉，包括石墨腔室主体、铺设在石墨腔室主体内壁上的特种石墨箔、石墨螺柱和石墨螺母；石墨螺柱穿过特种石墨箔螺纹连接在石墨腔室主体内壁上的螺纹孔中，石墨螺母螺纹连接在石墨螺柱位于石墨腔室主体内的端部上。一种防沉积炉的使用方法，用于上述的防沉积炉，包括步骤：提供内壁上具有螺纹孔的石墨腔室主体与环绕旋转主轴的防沉积保护套；将特种石墨箔铺在石墨腔室主体的内壁、底板、主轴和防沉积保护套上；将防沉积保护套放置在旋转主轴与石墨底板表面的连接部位，将防扩散石墨棉放入防沉积保护套内并分布在主轴周围。本申请具有延长石墨腔室主体寿命的效果。
主权项：1.一种用于CVD碳化硅的防沉积炉，其特征在于：包括石墨腔室主体（1）、铺设在所述石墨腔室主体（1）内壁上的特种石墨箔（3）、石墨螺柱（2）和石墨螺母（4）；所述石墨螺柱（2）穿过所述特种石墨箔（3）螺纹连接在所述石墨腔室主体（1）内壁上的螺纹孔中，所述石墨螺母（4）螺纹连接在所述石墨螺柱（2）位于所述石墨腔室主体（1）内的端部上。
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权利要求：
百度查询： 北京亦盛精密半导体有限公司 一种用于CVD碳化硅的防沉积炉及使用方法
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