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摘要：本申请公开了一种高透光率电磁屏蔽膜及其制备方法，包括依次层叠设置的透明基材层、第一保护层、金属屏蔽层、高折射率增透层、第二保护层和封盖层；高折射率增透层的折射率大于1.68，厚度为2～30nm，第一保护层的材质为高透过率的金属氧化物，第二保护层的材质为金属。本申请在金属屏蔽层和第二保护层之间布置有高折射率增透层，一方面能够增强屏蔽膜的抗环境性能和抗反射性能，另一方面利用光学匹配原理，提升了薄膜的透过率，从而在实现低方阻的同时保证较高的透过率，能够满足特定应用场景的需求；采用高功率脉冲磁控溅射电源工艺溅射制备金属屏蔽层，能够提高金属屏蔽层的致密度，降低金属屏蔽层的厚度，提高透过性。
主权项：1.一种高透光率电磁屏蔽膜，其特征在于，包括依次层叠设置的透明基材层、第一保护层、金属屏蔽层、高折射率增透层、第二保护层和封盖层；其中，所述高折射率增透层的折射率大于1.68，所述高折射率增透层的厚度为2～30nm，所述第一保护层的材质为高透过率的金属氧化物，所述第二保护层的材质为金属。
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百度查询： 江苏日久光电股份有限公司 高透光率电磁屏蔽膜及其制备方法
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