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摘要：本发明总的来说涉及半导体制造技术领域，提出一种用于衬底外延的反应器，包括：反应腔室；加热器，其被配置为对所述反应腔室进行加热；风冷流道，其位于所述加热器以及所述反应腔室之间；以及换热器，其布置于所述风冷流道上，其中所述换热器被配置为生成冷却气体并且驱动所述冷却气体沿所述风冷流道流动以便冷却所述反应腔室以及所述加热器。
主权项：1.一种用于衬底外延的反应器，其特征在于，包括：反应腔室；加热器，其被配置为对所述反应腔室进行加热；风冷流道，其位于所述加热器以及所述反应腔室之间；以及多个换热器，其布置于所述风冷流道上，其中所述换热器被配置为生成冷却气体并且驱动所述冷却气体沿所述风冷流道流动以便冷却所述反应腔室以及所述加热器；其中所述加热器包括第一和第二加热器，其中所述第一和第二加热器分别布置在所述反应腔室的上方和下方；所述风冷流道包括第一和第二流道，所述第一和第二流道分别位于所述第一和第二加热器与所述反应腔室之间；所述多个换热器布置在所述第一和第二流道的进口和出口处；所述加热器包括红外发热体；红外透射体，其布置于所述红外发热体靠近所述反应腔室的一侧；以及金属背板，其布置于所述红外发热体背离所述反应腔室的一侧；其中在冷却过程中只有加热器的红外透射体壁和反应腔室的腔壁暴露在风冷回路中；所述反应腔室包括：基座，其被配置为承载衬底；预热环，其布置于所述基座的周边处。
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百度查询： 上海埃延半导体有限公司 一种用于衬底外延的反应器
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