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摘要：本发明涉及一种掩模版，包括基底和掩模结构，所述掩模结构固定在所述基底之上，所述掩模结构具有图案，所述图案由矩阵排列的第十一图形构成，所述第十一图形包括形状各不相同的第一图形、第二图形、第三图形和第四图形。本发明还涉及一种基于掩模版的误差参数获取方法，通过量测第一图形、第二图形、第三图形和第四图形中的形状尺寸获得误差参数。利用本发明设计的一种掩模版及误差参数获取方法，能够解决当生产光罩需要转移到另外一台生产机台时，现有技术中通常使用光罩设备供应商提供的图形进行验证，光罩设备供应商提供的参数验证的图形难以覆盖全部技术点且缺乏对误差的具体化表现，导致后续的生产的光罩难以满足用户需求的问题。

主权项：1.一种掩模版，包括基底和掩模结构，所述掩模结构固定在所述基底之上，所述掩模结构具有图案，其特征在于，所述图案由121个第十一图形构成，当俯视所述图案时，所述第十一图形呈11×11的矩阵排列，所述第十一图形包括第一图形、第二图形、第三图形和第四图形；所述第一图形由L排尺寸相同的第一线条构成，其中L为大于1的自然数，每个所述第一线条相互平行且间距相等，每个所述第一线条中含有数量相同的第二线条，从第一排所述第一线条至第L排所述第一线条，所述第二线条的线宽B逐渐增加，其中B为大于1的自然数，单位为纳米；所述第一线条为非连续线条，所述第一线条由一排第五图形组和一排第六图形组构成；所述第五图形组包括N个横向排列的第五图形，其中N为大于1的自然数；所述第二线条位于所述第五图形内，每个所述第五图形中的第二线条的数量不同且都大于T，其中T为大于0的自然数，当T1时，每个所述第五图形中的所述第二线条相互平行且间距相等；所述第六图形组由所述第五图形组中每个所述第五图形顺时针旋转90°构成；所述第二图形包括第七图形和第八图形，所述第七图形上包括1个第一尺寸正方形，所述第一尺寸正方形的中心与所述第七图形的中心重合；所述第八图形包括P2个第二尺寸正方形，其中P为大于1的自然数，每个所述第二尺寸正方形呈方阵排列，所述方阵的中心与所述第八图形的中心重合；所述第三图形包括2条第三线条，2条所述第三线条相互垂直且中点重合；所述第四图形包括第一矩形和第二矩形，所述第一矩形与所述第二矩形的尺寸不同。

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