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摘要:本申请涉及镀膜设备领域,尤其是涉及一种磁控溅射镀膜机,包括驱动机构和磁控靶;磁控溅射镀膜机的真空腔室设置有旋转基座,驱动机构位于旋转基座的侧部;驱动机构包括第一驱动部、第二驱动部和第三驱动部;第一驱动部与磁控靶连接以驱动磁控靶俯仰摆动;第二驱动部与第一驱动部连接以驱动第一驱动部平移,使磁控靶靠近或者远离旋转基座上的工件;第三驱动部与第二驱动部连接以驱动第二驱动部升降,使磁控靶对工件的高度方向各处镀膜。本申请通过设置驱动机构带动磁控靶实现多维度移动,使磁控靶的位置适配于不规则形状工件表面的起伏情况,完成对异形工件的表面镀膜同时保证异形工件镀膜的均匀性。且磁控靶的尺寸更小,降低了制造难度和成本。
主权项:1.一种磁控溅射镀膜机,其特征在于,包括驱动机构和磁控靶;所述磁控溅射镀膜机的真空腔室设置有旋转基座,所述驱动机构位于旋转基座的侧部;所述驱动机构包括第一驱动部、第二驱动部和第三驱动部;所述第一驱动部与所述磁控靶连接,以驱动所述磁控靶俯仰摆动;所述第二驱动部与所述第一驱动部连接,以驱动所述第一驱动部平移,从而使所述磁控靶靠近或者远离所述旋转基座上的工件;所述第三驱动部与所述第二驱动部连接,以驱动所述第二驱动部升降,以使所述磁控靶对所述工件的高度方向各处镀膜。
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