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摘要：本实用新型公开一种扩散板和等离子体刻蚀装置，其中扩散板包括扩散板本体，扩散板本体上开设有多个气孔，多个气孔的孔径自扩散板本体的中心至板边方向呈渐扩设置；扩散板本体具有相对的第一端和第二端，多个气孔沿扩散板本体的第一端至第二端方向分设为多个第一气孔组，每一第一气孔组内的气孔孔径相同，多个第一气孔组的气孔孔径沿扩散板本体的中心分别向第一端和第二端的方向呈渐扩设置。通过这样的设置使得扩散板本体将不同浓度的介质从一空间输送至另一空间时达到均匀输送的效果。
主权项：1.一种扩散板，应用于等离子体刻蚀装置，所述等离子体刻蚀装置包括壳体组件和电离组件，其特征在于，所述扩散板包括扩散板本体，所述扩散板本体上开设有多个气孔，多个所述气孔的孔径自所述扩散板本体的中心至板边方向呈渐扩设置，所述壳体组件内形成有腔体；所述扩散板本体设置在所述腔体内，将所述腔体分隔成电离腔和刻蚀腔；所述电离组件包括间隔设于所述电离腔内的正电极和负电极，所述扩散板本体的中心与所述正电极和所述负电极二者相对之间的中心对应，所述电离腔内的等离子体通过所述扩散板本体扩散后输送至所述刻蚀腔内。
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