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摘要：提供一种掩模基底，即使在掩模基底的基板主表面上存在缺陷，该缺陷也不会对利用转印用掩模的转印像产生影响，能够作为合格品。一种掩模基底，其在透光性基板的主表面上具备转印图案形成用的薄膜，在所述透光性基板的主表面上存在缺陷，该缺陷在将从所述主表面侧观察时的宽度设为w、在所述主表面的垂直方向上从所述主表面到缺陷的前端为止的长度设为L时，满足L≤97.9×w‑0.4的关系。
主权项：1.一种透过型掩模基底，其在透光性基板的主表面上具备转印图案形成用的薄膜，所述掩模基底的特征在于，在所述透光性基板的所述主表面上存在缺陷，所述缺陷即使没有被所述薄膜覆盖，也不会对利用所述透过型掩模基底得到的透过型转印用掩模的转印像产生影响，所述缺陷在将从所述主表面侧观察时的宽度设为w、在所述主表面的垂直方向上从所述主表面到所述缺陷的前端为止的长度设为L时，满足以下关系：L≤97.9×w-0.4。
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百度查询： HOYA株式会社 掩模基底、转印用掩模以及半导体器件的制造方法
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