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摘要：本发明关于反射镜，尤其是用于微光刻投射曝光装置。根据一方面，根据本发明的反射镜具有光学有效表面11,31、反射镜基板12,32、用以反射入射在光学有效表面上的电磁辐射的反射层系统21,41、以及至少一个压电层16,36，其中压电层布置在反射镜基板和反射层系统之间，且通过位于面向反射层系统的压电层的一侧上的第一电极配置，以及通过位于面向反射镜基板的压电层的一侧上的第二电极配置，能够施加用以产生局部可变变形的电场至压电层，其中该电极配置中的一个分配有中介层17,37,51,52,53,71，用于设定沿相应电极配置的电位的至少区域性连续的轮廓；以及其中该中介层具有至少两个相互电绝缘的区域17a,17b,17c,…；37a,37b,37c,…。
主权项：1.一种反射镜，其中该反射镜具有光学有效表面，包含：-反射镜基板；-反射层系统，用以反射入射在该光学有效表面上的电磁辐射；以及-至少一个压电层，其布置在该反射镜基板和该反射层系统之间，且通过位于该压电层的面向该反射层系统的一侧上的第一电极配置，以及通过位于该压电层的面向该反射镜基板的一侧上的第二电极配置，能够施加用以产生局部可变变形的电场至该压电层，-其中所述电极配置中的一个分配有具有低于200西门子米的电导率的中介层，用于设定沿相应电极配置的电位的至少区域性连续的轮廓；以及-其中该中介层具有至少两个相互电绝缘的区域，其中所述中介层的这些电绝缘的区域被分配给相同的连续压电层，并且被分配给所述反射层系统；以及-其中该中介层位于该第一电极配置嵌入其中的共同平滑层下方。
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百度查询： 卡尔蔡司SMT有限责任公司 用于微光刻投射曝光装置的反射镜
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