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摘要：本发明提供一种进气结构及半导体工艺设备，进气结构用于半导体工艺腔室，进气结构包括进气主管、进气头部和密封转接组件；进气主管与进气头部连通，以通过进气头部向工艺腔室内输送工艺气体；密封转接组件设置在进气主管外，进气主管和进气头部通过密封转接组件对进气主管与工艺腔室之间进行可活动地密封，以能够相对于工艺腔室活动。本发明提供的进气结构及半导体工艺设备，能够提高半导体工艺腔室的进气均匀性及密封性，并且能够增加介质窗和上电极组件的优化设计空间，从而能够提高工艺腔室内的工艺气体的分布均匀性，并且能够增加对刻蚀结果进行优化设计的空间，进而能够改善半导体工艺结果。
主权项：1.一种进气结构，用于半导体工艺腔室，其特征在于，所述进气结构包括进气主管、进气头部和密封转接组件；所述进气主管与所述进气头部连通，以通过所述进气头部向所述工艺腔室内输送工艺气体；所述密封转接组件设置在所述进气主管外，所述进气主管和所述进气头部通过所述密封转接组件对所述进气主管与所述工艺腔室之间进行可活动地密封，以能够相对于所述工艺腔室活动。
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百度查询： 北京北方华创微电子装备有限公司 进气结构及半导体工艺设备
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