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摘要:一种工艺套件及物理气相沉积设备,工艺套件应用于物理气相沉积设备中,工艺套件的顶部延伸至物理气相沉积设备的靶材,并围绕在靶材的周边,工艺套件的底部延伸至物理气相沉积设备的基板支撑件的下方,并围绕基板支撑件的周边,工艺套件用于注入气体,工艺套件包括环形主体及其外周的适配结构,从而工艺套件的结构组成简单,易于快速组装与维护;此外,在采用工艺套件在物理气相沉积设备中进行气体注入时,气体通过适配结构外侧壁上的进气口被引入工艺套件中,经第二通道和第一通道后,通过环形主体内侧壁的出气口输出,工艺套件为气体注入提供流通路径。
主权项:1.一种工艺套件,其特征在于,所述工艺套件应用于物理气相沉积设备中,所述工艺套件的顶部延伸至所述物理气相沉积设备的靶材,并围绕在所述靶材的周边,所述工艺套件的底部延伸至所述物理气相沉积设备的基板支撑件的下方,并围绕所述基板支撑件的周边,所述工艺套件用于注入气体;所述工艺套件包括:环形主体,所述环形主体包括第一通道以及位于所述环形主体内侧壁的出气口,所述第一通道与所述出气口连接;适配结构,位于所述环形主体的外周,所述适配结构包括第二通道以及位于所述适配结构外侧壁的进气口,所述第二通道和所述进气口连接,所述进气口、第二通道、第一通道以及出气口作为气体的流通路径。
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