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摘要：本发明提供了一种高温超导膜微细图形及其制备方法，属于高温超导材料图形化制备技术领域。本发明通过对光刻工艺中的曝光、后烘、显影、刻蚀的浓度和时间以及剥离的温度和时间等多种参数进行综合优化、控制，可以使制备的高温超导膜微细图形的垂直度高，图形表面质量良好，厚度较大而且具有良好的超导性能；本发明提供的制备方法成本低廉，易于大规模生产，并且不会对待刻超导膜的结构和超导性能产生不利影响。实施例的结果显示，本发明提供的制备方法制备的高温超导膜微细图形的垂直度高，图形表面质量良好，厚度较大而且具有良好的超导性能。
主权项：1.一种高温超导膜微细图形的制备方法，包括以下步骤：1在高温超导膜上依次进行涂胶、前烘、曝光和后烘，得到光刻胶薄膜；所述涂胶的操作为：将光刻胶在旋涂机上以500～1000rpm旋涂3～15s，再以3000～5000rpm旋涂20～50s；所述光刻胶薄膜的厚度为3～15μm；2将所述步骤1得到的光刻胶薄膜依次进行显影和刻蚀，得到刻蚀薄膜；所述刻蚀所用的刻蚀液为盐酸或硝酸溶液；所述盐酸由浓盐酸和水按体积比为1：15～20混合而成；所述硝酸溶液由浓硝酸和水按体积比为1：15～20混合而成；所述刻蚀的时间为5～20s；3将所述步骤2得到的刻蚀薄膜在丙酮剥离液中剥离，得到高温超导膜微细图形；所述剥离的时间为50～300s，剥离的温度为20～100℃。
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百度查询： 西安理工大学 一种高温超导膜微细图形及其制备方法
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