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摘要：一种基板处理设备和基板处理方法，其可通过防止在液体处理室和热处理室之间传送基板的主传送机器人传送边缘曝光的基板来增加生产的基板数量。基板处理设备包括：转位模块；缓冲器模块；处理模块；接口模块；转位模块包括：装载端口，其中放置接收基板的容器；以及转位框架，其设置有用于在容器和缓冲器模块之间传送基板的转位机器人，容器放置在装载端口中，缓冲器模块设置有放置基板的缓冲器；处理模块包括：液体处理室，其用于液体处理从缓冲器模块装载的基板；热处理室，其用于热处理从缓冲器模块接收的基板；传送室，其设置在液体处理室和热处理室之间并设置有用于将基板分别传送到缓冲器模块、液体处理室和热处理室的主传送机器人；接口模块包括：接口框架，其位于处理模块和外部曝光装置之间；边缘曝光室，其设置在接口框架内并在基板上执行边缘曝光工艺；接口机器人，其设置在接口框架内并传送基板，主传送机器人和接口机器人中的每一者将基板装载到边缘曝光室中或从边缘曝光室中卸载基板。
主权项：1.一种基板处理设备，其包括：转位模块；以及缓冲器模块；处理模块；以及接口模块，其中所述转位模块包括：装载端口，在所述装载端口中放置接收基板的容器；以及转位框架，其设置有转位机器人，以用于在放置在所述装载端口中的所述容器和所述缓冲器模块之间传送所述基板，所述缓冲器模块设置有缓冲器，在所述缓冲器中放置所述基板，所述处理模块包括：液体处理室，其用于对从所述缓冲器模块装载的所述基板进行液体处理；热处理室，其用于热处理从所述缓冲器模块接收的所述基板；以及传送室，其设置在所述液体处理室和所述热处理室之间，并且设置有主传送机器人，所述主传送机器人用于将基板分别传送到所述缓冲器模块、所述液体处理室和所述热处理室，所述接口模块包括：接口框架，其位于所述处理模块和外部曝光装置之间；边缘曝光室，其设置在所述接口框架内，并在所述基板上执行边缘曝光工艺；以及接口机器人，其设置在所述接口框架内并传送所述基板，以及所述主传送机器人和所述接口机器人中的每一者将所述基板装载到所述边缘曝光室中或从所述边缘曝光室中卸载所述基板。
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